事業概要

BUSINESS

材料表面を深く、正確に、スピーディに。

主な製品・技術領域

当社が提供する分析技術には、XPS(X線光電子分光法)、AES(オージェ電子分光法)、SIMS(二次イオン質量分析法)などがあります。原子・分子レベルの情報を“面で捉える”高精度な表面分析技術が、世界中の研究開発・生産現場で活躍しています。

XPS

走査型X線光電子分光分析装置

PHI GENESIS

PHI GENESIS

フルオート多機能走査型X線光電子分光分析装置

AES

走査型オージェ電子分光分析装置

PHI 710

PHI 710

ナノメートルレベルでの微小部オージェ分析

TOF-SIMS

飛行時間型二次イオン質量分析装置

PHI nanoTOF 3+

PHI nanoTOF 3+

微小領域の表面質量分析を極める多機能TOF-SIMS

Q-pole-SIMS

四重極型二次イオン質量分析装置

PHI ADEPT-1010s

PHI ADEPT-1010s

自動かつ高速極表面深さ方向分析

グローバルに挑む、日本発の技術。

海外展開

日本を拠点に、アメリカ、ヨーロッパ、アジアなど世界中の拠点と連携しています。製品の70%以上は海外で使用されており、グローバル市場でも高い評価を受けています。

半導体から宇宙材料まで。
活躍フィールドは世界規模。

活躍するフィールド

当社の分析装置は、半導体製造の品質評価をはじめ、次世代電池、医療材料、宇宙開発など多岐にわたる最先端分野で使用されています。また、国内外の大学や研究機関でも導入され、基礎研究を支える重要な役割を果たしています。

高度な技術に挑み続ける、
プロフェッショナル集団。

社風・働き方

分析装置は“総合技術の結晶”ともいえる製品です。機械、電気、ソフトウェア、化学、物理など多様な専門性が融合する現場で、社員一人ひとりが「知的好奇心」と「技術力」を武器に挑戦しています。

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